在使用 AuthenticationManager 的时候，出现循环依赖问题 —— java.lang.StackOverflowError，查资料查了两天半，终于找到原因。
微小的电流测量，这个测量的限度在哪里呢？对于科学永无止境，但是对我来说，有尽头，目前是nA的级别，再往高噪音问题可能就有点难了。
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5月30日消息，光刻机大厂ASML在imec（比利时微电子研究中心）的ITF World 2024会议上宣布，其首款High-NA EUV光刻机已创下新的晶圆制造速度记录，超过了两个月前创下的记录。...
2月29日消息，据外媒Tomshardware报导，ASML与英特尔于本周宣布达成了High NA EUV的重要里程碑。ASML已向英特尔交付的最先进High NA EUV光刻机Twinscan EXE:5000的主要部件已经启动，即首度打开光源并使光线到达晶圆上的抗...
2月26日，据imec（比利时微电子研究中心）官方消息，在“2024 年先进光刻 + 图案化会议上”，imec将展示 EUV 工艺、掩模和为实现高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻而准备的计量学。imec报告了抗蚀剂和底层开发、掩模增强、光学邻...
但是，如果参数是 0 到-1 之间的小数，则等同于 0，这是因为会先进行取整运算。0 到-1 之间的小数，取整以后等于-0，repeat视同为 0。
1.实现org.springframework.beans.factory.DisposableBean接口，重写destroy方法
