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EC1002A原厂升压IC 3.3V升压芯片 低功耗升压IC技术电路原理图

FS2112芯片是一款高效率、低功耗的同步升压DC/DC变换器芯片,特别适用于干电池设备。本文将深入探讨FS2112芯片的特性和性能,以及其在干电池升压应用中的优势。...

2024-04-17
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芯片的未来发展趋势

今年年初,大多数人从未听说过生成式人工智能。现在整个世界都在竞相利用它,而这仅仅是个开始。量子计算、6G、智能基础设施等新市场领域专用处理正在加速对更快、更高效、更多数据的需求。...

2024-04-16
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glitch功耗的问题在先进节点上更加突出

glitch功耗并不是一个新现象。在先进节点上,glitch功耗问题正变得越来越突出,没有一种解决方案适用于所有芯片或设计类型。

2024-04-15
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形式验证(Formal Verification)会越来越有用

随着芯片被用于很多关键的应用,芯片内部的交互数量也在增加,形式验证在芯片研发流程中的角色也越来越多。

2024-04-15
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为了功耗,重新设计芯片

在基于RTL的芯片研发流程中,我们对于RTL开发时的功耗优化投入了大量精力,但这只是可以节省的功耗的一小部分。该行业转向更大算力系统的愿望受到热量的限制,因此越来越关注减少每个操作所消耗的能源。...

2024-04-15
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边缘设备上的chatGPT

人工智能正在影响几乎所有可以想象的应用领域,但它越来越多地从数据中心data center转移到边缘edge,在那里需要比过去更快地处理大量数据。

2024-04-15
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先进工艺下的SRAM

尽管SRAM的设计年代久远,但它已成为AI的主力存储器。但SRAM无法进一步缩放对功耗和性能目标提出了挑战,迫使系统从硬件创新到重新思考系统整体的布局。...

2024-04-15
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为降低DRAM制造成本,传美光将率先采用佳能纳米压印设备

2023年10月,日本光刻机大厂佳能(Canon)正式发布了基于纳米压印技术(NIL)的芯片制造设备FPA-1200NZ2C,为生产先进制程芯片开辟出一条成本更低的全新路径。据外媒报道称,美光近日在一场演讲当中介绍了如何将纳米压印技术用于DR...

2024-03-06
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英特尔CEO:公司未来全押注于Intel 18A的成功!

Intel 18A制程是英特尔于2021年制订的“四年实现五个工艺制程节点”计划的最后一个节点,也是英特尔多年晶圆制造经验和数十亿美元研发的结晶。按照英特尔公布的量产时间,英特尔将通过该制程,超越竞争对手台积电和三星。...

2024-03-06
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High NA EUV主要部件已经启动,达成“第一道光”里程碑!

2月29日消息,据外媒Tomshardware报导,ASML与英特尔于本周宣布达成了High NA EUV的重要里程碑。ASML已向英特尔交付的最先进High NA EUV光刻机Twinscan EXE:5000的主要部件已经启动,即首度打开光源并使光线到达晶圆上的抗...

2024-03-06
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