2月15日消息，据韩国媒体BusinessKorea报导，三星正在开发极紫外光(EUV) 光罩保护膜 (Pellicle) ，希望借此提高EUV系统生产芯片的良率以缩小与竞争对手台积电的市占率差距。
据了解，光罩保护膜是一种薄膜，可保护EUV光罩表面免受空气中微分子或污染物的影响，这对于 5nm或以下节点制程的先进制程技术的良率表现至关重要。另外，光罩保护膜也是一种需要定期更换的消耗品，而由于 EUV光刻设备的光源波长较短，因此保护膜需要较薄厚度来增加透光率。之前，硅已被用于制造光罩护膜，但石墨烯会是一种更好的材料，因为石墨烯制造的光罩保护膜比硅更薄、更透明。
目前光罩保护膜主要供应商是荷兰ASML、日本三井化学和韩国S&S Tech。而台积电从2019 年开始，就使用自研的EUV 光罩保护膜，并且于2021 年宣布产能比2019 年提高了20 倍。
三星曾在其“Foundry Forum 2021”上就宣布要自研EUV光罩保护膜，2023 年初开发透光率达88% 的EUV光罩护膜。按照三星说法，其EUV 光罩保护膜应已量产，有助达成供应链多元化和稳定。不过三星还要继续开发，因88% 透光率护膜并不是品质最好的产品。目前，市场已有透光率达90% 以上EUV光罩保护膜厂商，一加是ASML，另一家是S&S Tech，后者2021 年成功开发透光率为90% 的EUV光罩保护膜。
报道称，三星半导体研究所近期人才招聘资料显示，三星正积极开发透光率92% 的EUV光罩保护膜。目前，三星也开始研究下一代High-NA EUV 护膜，将采用新材料，也将与外部机构合作，开发评估碳纳米管和石墨烯EUV光罩保护膜。三星也会推动自研的纳米石墨薄膜大量生产设施设计。
市场人士表示，三星推动自研EUV光罩保护膜，就是为了追上台积电。
编辑：芯智讯-浪客剑
