前
言
/ 2022.8.3
一波未平，一波又起，距美国众议院高票通过《芯片与科学法案》仅数日，美国就借机再度亮出了芯片这张“制裁王牌”，相关部门正在酝酿新一轮对中国芯片业的限制措施。
01
新一轮的“芯片战争”
据《联合早报》报道称，芯谋研究首席分析师顾文军表示：美国政府可能将限制从生产设备扩展到装机和维护领域，例如禁止供应商为已出口到中国的设备提供后续服务，加大设备维护和升级的难度。
此外也有消息称，美国正在收紧对中国获得先进芯片制造设备的限制，出口中国禁令覆盖的范围从最大10nm 提升至14nm。
据知情人士透露，在过去两周左右的时间里，所有美国设备制造商都收到了来自商务部的信函，要求他们不要向中国供应可用于14nm 以下先进制程芯片制造的设备。
02
我们将面临哪些挑战？
这一举措意味着不仅中芯等中国大陆本土的芯片制造商14nm 及以下先进制程发展受限，此次美国宣布断供的范围也将影响包括台积电在内的大陆地区制造厂。
半导体人才紧张已经是全球产业界的问题。目前的情况是半导体行业的工程师培养速度跟不上技术的快速进步，企业纷纷跨越国境争夺优秀人才。
在人才缺口如此严峻的情况下，再加之核心技术“受制于人”，这一套“组合拳”势必会成为中国半导体行业的一个新挑战。
除此之外，美国政府还在积极游说其他国家，希望他们跟随脚步，禁止对中国出口芯片制造相关设备，虽然就目前来看游说并没有获得实质性的进展。
对于美国将向中国提供芯片制造设备的限制从10nm 提高到14nm 的通知，ASML 公司表示并未收到消息，尼康则表示该规定对其中国业务没有影响。
03
国内光刻机发展现状
清华曾表示：目前我国用于 14nm 及以下工艺制程的光刻机仍依赖于进口。
近两年来，越来越多的企业进入半导体领域，加速了我国在半导体领域的技术突破，也确实取得了诸多利好的成就。但芯片制造最关键的设备之一光刻机却依然面临着难题。
如果说芯片是现代工业文明的结晶，那么光刻机就是站在现代工业文明结晶上的皇冠。现在全球最顶尖的芯片是5nm 制程技术，甚至连3nm 制程的也已经在研发设计中。
此前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm 制程的芯片，而现在享誉世界的北斗全球定位导航卫星中使用的三号芯片已经成功打破了22nm 的上限。
上海微电子有关工程师也带来了喜讯，称我国用于28nm 和14nm 芯片生产的光刻机都已成功获得突破，虽“成品率还有提升空间”，但这也意味着量产在稳步推进中。
半导体研发之路充满艰难，只要我们能够坚持不懈地努力，“卡脖子”的难题终究会一个一个地被解决掉。一旦解决掉一个，我们的主动权就会大一些，底气就会足一点。
现代战争，不只单靠炮火渗透，感谢每一位在前线奋斗的研究工程师，身为后浪的我们也应该紧跟步伐、砥砺前行。
END
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