脊形波导激光器的制作：
1、光刻
光刻前清洗、清洗后100℃烘烤10分钟。采用positive photoresists AZ1350.Karl Zuss光刻机曝光6s，显影50s
2、刻蚀
可以采用干法刻蚀，也可以采用湿法刻蚀。
湿法刻蚀的图形，
采用磷酸：双氧水：乙酸=1：1：1 刻蚀速率约1.5um/min。
3. 做氧化层
比如SiN或SiO，作为介质层，阻挡非电极区域的金属层和外延片的接触。常用方法有CVD或ECR、Sputter。
4、电极制作
上表面P电极采用Ti/Pt/Ti/Au=10/20/40/200nm.
然后减薄抛光，背面是N型砷化镓，镀N电极 Ge/Ni/Au/Ti/Au=20/15/50/50/150nm。
5、退火
Nitrogen气氛下，采用类似RTA的退火方式，P电极400度10s，N电极380度10s。
6、减薄
backside substrate polished down 120um，
先用3um的氧化铝研磨粉减薄到距离目标值10-20um厚度，接着用1um的研磨粉，减薄到目标值，然后用阻尼布抛光，采用NaOCl水溶液化学抛光，然后解离、清洗、吹干。
然后用盐酸过抛光面，去除氧化层。
7. 划片和裂片
成激光器巴条
8、镀AR和HR膜
一端面镀增透膜和另外一端面镀反射膜。
